實(shí)驗(yàn)儀器、實(shí)驗(yàn)器皿
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產(chǎn)品品牌南京濱正紅
最小起訂≥1 臺
供貨總量500 臺
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更新日期2021-09-03 18:17
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品牌: |
南京濱正紅 |
所在地: |
江蘇 南京市 |
起訂: |
≥1 臺 |
供貨總量: |
500 臺 |
有效期至: |
長期有效 |
規(guī)格: |
500ml |
規(guī)格: |
1000ml |
規(guī)格: |
2000ml |
酸純化器、CH高純酸提純器、硝酸蒸餾裝置、亞沸騰蒸酸器
高純酸純化儀、酸純化系統(tǒng)
一、 產(chǎn)品簡介:
NJ-ZH酸純化器:又稱酸純化系統(tǒng),高純酸提純器,酸試劑提純器,高純酸蒸餾純化器等,實(shí)驗(yàn)室工作中常常由于酸的純度較差,造成分析結(jié)果的偏差與錯(cuò)誤。市售的純酸往往由于價(jià)格較貴,很難滿足日常分析中對酸的大量需求。因此,提純優(yōu)化酸的質(zhì)量,為經(jīng)濟(jì)可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實(shí)驗(yàn)室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機(jī)溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實(shí)驗(yàn)后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。
二、工作原理:
酸純化器是利用熱輻射原理,保持液體溫度低于沸點(diǎn)溫度蒸發(fā),再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑,廣泛應(yīng)用于樣品處理及分析實(shí)驗(yàn)中。
溫度控制:經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明鹽酸:110℃、硝酸+氫氟酸:175-180℃
溫度高效率高,溫度低酸的純度會更好
我廠高純酸蒸餾純化器優(yōu)勢:
1、密閉環(huán)境下提純酸,不受環(huán)境污染,確保酸純度;
2、節(jié)約成本、方便實(shí)驗(yàn):較短時(shí)間內(nèi)純化低成本的酸試劑以達(dá)到痕量分析要求;
3、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實(shí)驗(yàn)室超純酸,所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料,可處理如HNO3、HCl、HF等實(shí)驗(yàn)室的常用酸;
4、實(shí)驗(yàn)證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后,金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高,可增加提純次數(shù);
5、可拆卸清洗,避免腔體里面長期提純,造成金屬雜質(zhì)含量沉積越來越多,影響提純的質(zhì)量;
三、 產(chǎn)品特點(diǎn):
1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實(shí)驗(yàn)室級超純酸,所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料,可處理如HNO3、HCl、HF等實(shí)驗(yàn)室的常用酸。
2、實(shí)驗(yàn)證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后,金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高,可增加提純次數(shù)。
四、相關(guān)參數(shù):
型號 | CH-I 500ml | CH-II 1000ml | CH-Ⅲ 2000ml | CH-IV 4000ml |
名稱 | 酸純化器 | 酸純化器 | 酸純化器 | 酸純化器 |
產(chǎn)酸率 | 30ml/h | 50ml/h | 70ml/h | 100ml/h |
溫控方式 | PID溫控?cái)?shù)顯 | PID溫控?cái)?shù)顯 | PID溫控?cái)?shù)顯 | PID溫控?cái)?shù)顯 |
控溫精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
材質(zhì) | FEP、PTFE、硅膠 | |||
電壓 | 220V/50Hz | |||
功率(W) | 350 | |||
優(yōu)勢 | 1.密閉環(huán)境下提純酸,不受環(huán)境污染,確保酸純度 | |||
2.純FEP、PTFE材質(zhì)制造,值低無腐蝕 | ||||
3.結(jié)構(gòu)合理,操作簡單,一鍵式操作,蒸干自我保護(hù) | ||||
4.提純過程中,少量酸氣溢出 | ||||
5.節(jié)約成本,方便實(shí)驗(yàn):較短時(shí)間內(nèi)純化低成本的酸試劑以達(dá)到痕量分析要求 |
五、使用注意事項(xiàng):
1、所有配件(控制器、電源線、加熱片等除外)放入按實(shí)驗(yàn)要求一定濃度的酸液中浸泡,去除雜質(zhì)。
2、加酸前必須做好個(gè)人防護(hù)如:防濺眼鏡、防酸手套等(蒸水除外)。
【電子級酸】:
適用于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析,根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量,劃分為4個(gè)級別:MOS級,VLSI級,ULSI級,SLSI級
MOS級(EL級):控制十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右
VLSI級:控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb
ULSI級:控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下
SLSI級:控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下
所謂的電子級酸,其實(shí)就是ppb或者ppt級的高純酸。
實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)(僅供參考):儀器:CH-I 酸純化器;試劑:優(yōu)級純HF
蒸餾后,經(jīng)中國地質(zhì)大學(xué)地質(zhì)過程與礦產(chǎn)資源重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室ICP-MS檢測出HF中雜質(zhì)的含量:
元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) | 元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) |
Be | <0.01 | Ba | <0.01 |
Mg | <0.02 | La | <0.01 |
Sc | <0.01 | Ce | <0.01 |
V | <0.01 | Pr | <0.01 |
Cr | <0.03 | Nd | <0.01 |
Mn | <0.01 | Eu | <0.01 |
Co | <0.01 | Gd | <0.01 |
Ni | <0.01 | Tb | <0.01 |
Zn | <0.02 | Er | <0.01 |
Ga | <0.01 | Tm | <0.01 |
Rb | <0.01 | Yb | <0.01 |
Sr | <0.02 | Lu | <0.01 |
Zr | <0.01 | Hf | <0.01 |
Cd | <0.01 | Pb | <0.01 |
Sn | <0.01 | Th | <0.01 |
Cs | <0.01 | U | <0.01 |
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